氧化铜的化学式_氧化铜的化学式

宏伟科技申请了电路板的化学金、钯生产工艺专利，有效降低了线路的高频电阻...有限公司申请了名为"电路板的化学金、钯生产工艺"的专利，公开号CN118756124A，申请日期为2024年3月。 专利摘要显示，该电路板的化学金钯生产工艺包括以下步骤：S1：脱脂、微蚀、酸洗，使含铜层的电路板的铜表面粗化并保持新鲜度，去除铜表面的氧化物；S2：化学...

万华化学申请了氯化氢氧化制备氯气专利，该专利技术制备工艺简单，...金融界消息，据国家知识产权局消息，2024年2月3日，万华化学集团有限公司已申请专利edfora项目名为"催化剂" 氯化氢氧化制备氯气及其..."载体中钠的质量百分比优选为1～15,000ppm。该催化剂具有制备工艺简单、活性高、铜损耗低、稳定性高等特点。本文来自财经...

万华化学获得氧化硅负极材料及其制备方法专利，该专利技术可以实现...万华化学集团股份有限公司获得"氧化硅负极材料及其制备方法"专利，授权公告号CN114373915B，申请日期为2022年1月。本发明提供了一种氧化硅负极材料及其制备方法，该氧化硅负极材料具有以下特点：可以对其进行铜靶X射线衍射分析以确定其含有...

<图片title="氧化铜的化学公式" src="https://thumb.1010pic.com/pic6/res/czhx/web/STSource/20131030155009695829948/SYS201310301550096958299019_ST/images0.png"onerror="this.style.display='无'">

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万华化学申请了一种铜基催化剂专利，该催化剂在较宽的压力范围内表现出良好的性能...万华化学集团股份有限公司申请了一项名为"铜基催化剂及其制备方法及其应用"的专利，公众号CN117884139A，申请日期为2023年12月。 专利摘要显示，本发明公开了一种铜负载型催化剂及其制备方法和应用。该催化剂按催化剂总质量计，含有5～50％的氧化铜和0.1～10％的氧化钇。

东江环保：烟花级氧化铜产品成功投产，技术实力凸显[东江环保(002672)烟花级氧化铜产品在江门东江成功投产]5月15日，东江环保旗下江门东江，成功生产出第一批烟花级氧化铜产品，该批次产品质量满足当地标准和客户要求，展示了公司在铜盐产品领域的技术实力和市场竞争力。 烟花级氧化铜是烟花制造中的关键化学成分，其成功生产将为东江...

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东江环保首批烟花级氧化铜产品在江门东江成功生产。5月14日，东江环保子公司江门东江成功生产首批烟花级氧化铜产品。 经检测，该批次产品各项指标均达到地方标准和客户要求，标志着东江环保在铜盐产品领域的技术实力和市场竞争力进一步提升。 烟花级氧化铜是一种重要的化学物质，广泛用于烟花制造。 本文来自金融行业ATelegram

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安吉科技申请了一种可显着提高铜表面粗糙度的化学机械抛光液专利。该公司申请的专利名为"一种化学机械抛光液"，公开号为CN202211711773.1，申请日期为2022年12月。 专利摘要显示，本发明公开了一种用于铜抛光的化学机械抛光液，该抛光液包括磨料颗粒、含氮杂环缓蚀剂、络合剂、非离子表面活性剂和氧化剂。 络合剂为氨基羧酸化合物...

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安吉科技申请了一种化学机械抛光液专利，以减少抛光后铜表面缺陷的数量。该公司申请的专利名为"一种化学机械抛光液"，公开号为CN202211703236.2，申请日期为2022年12月。 专利摘要显示，本发明提供了一种化学机械抛光液，包括磨粒、五元含氮杂环化合物、六元含氮杂环化合物、有机酸和氧化剂。 本发明的抛光液对铜的去除率较高；通过使用两种...

益世通申请了铜锰铁尖晶石保护层专利，可在低电流密度下制备出均匀致密的颗粒。本发明公开了一种采用共沉积电镀和原位氧化法制备的铜锰铁尖晶石。 该晶石保护层及其制备方法和应用以及SOFC连接器，涉及电化学技术领域。该方法包括：S1、在电镀液中对基体进行铜锰铁共沉积电镀，在基体表面沉积合金镀层；S2、对步骤S1得到的基体进行氧化处理，将合金镀层转变成铜。-锰...

安吉科技申请了一种可改善抛光铜线盘形的化学机械抛光液专利...本发明提供了一种化学机械抛光液，包括磨粒、电荷调节剂、腺嘌呤衍生物材料、络合剂、氮唑缓蚀剂和氧化剂；络合剂为氨基羧酸化合物及其盐。 本发明的化学机械抛光液对铜的去除率高，对钽的去除率低，从而具有高的铜/钽去除率选择性比，可以改善碟形凹陷和...