啥是光刻机_啥是光刻机

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...东莱半导体科技获得基于康达效应的掩模台导流装置和光刻机专利。金融界消息2024年11月23日，国家知识产权局信息显示，上海鑫东莱半导体 科技有限公司已获得一项名为"基于附壁效应的掩模台导流装置及光刻机"的专利，授权公告号为CN118818922B，申请日期为2024年9月。

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光刻机（胶水）概念22日主网流出27.11亿元，张江高科、晶方科技领涨。11月22日，光刻机( 胶概念下跌4.55%。今日主力资金流出27.11亿元。3只概念股上涨，79只下跌。 主力资金净流出居前的是张江高科（2.32亿元）、晶方科技（2.16亿元）、大族激光（2.16亿元）、海立科技（1.85亿元）、杰杰微电子（1.51亿元）。

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光刻机概念（胶水）21日净流出6.05亿元，大族激光、张江高科领涨。11月21日，光刻机概念（胶水）上涨0.1%，今日主力资金流出6.05亿元。 28只概念股上涨，52只下跌。 主力资金净流出居前的是大族激光（2.59亿元）、张江高科（9213.61万元）、海立科技（6867.99万元）、广新材料（5600.45万元）、荣达感光（5179.36万元）。

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20日光刻机概念（胶水）主网流入4.74亿元，西龙科学、Plite领涨。11月20日，光刻机概念（胶水）上涨2.3%，今日主力流入4.74亿元。 元，概念股上涨68只，下跌14只。 主力资金流入净额居前的是西龙科学（1.7亿元）、普利特（9630.12万元）、宝通科技（8911.53万元）、赛微电子（6285.36万元）、茂莱光学（471595万元）。

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光刻机概念（胶水）19日净流出5521.32万元，景方科技、高科科技领涨。11月19日，光刻机概念（胶水）上涨4.58%，今日主要资金流出5521.32万元。 元，82只概念股涨0跌。 主力资金净流出居前的是景方科技（1.48亿元）、海立科技（1.18亿元）、湖北宜化（9372.81万元）、南大光电（3167.2万元）、泰和科技（2783.26万元）。

富晶科技：该公司生产的光学晶体在光刻机上的应用尚未被发现。据财经新闻11月18日，有投资者在互动平台询问富晶科技：您好！富晶科技是全球最大的LBO和非线性光学晶体制造商，其产品主要用于固态激光器和光纤激光器的制造。这些激光系统的核心部件对于光刻机的生产至关重要。 目前已有多家上市公司如（永新光学）等上市公司正式...

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百川股份：公司生产的光刻机溶剂PMA可广泛应用于各个领域。据金融界消息，11月18日，有投资者在互动平台询问百川股份：公司生产的光刻机溶剂PMA怎么样？ 第三季度报告没有反映销售额。 公司产品能否应用于光刻机领域？公司回复：PMA是一种用途广泛的溶剂，广泛应用于涂料、油墨、化纤、纺织、化工等领域，也可用于电子行业。 获取...

日本首台ASMLEUV光刻机将于下个月中旬抵达Rapidus晶圆厂进行试生产。日本先进半导体代工厂Rapidus采购的首台ASMLEUV光刻机将于2024年12月中旬抵达。 北海道新千岁机场，这也将成为日本首个EUV光刻设备。 根据Rapidus高管此前的说法，该光刻机是早期的0.33NA型号，而不是0.55NA（高NA）型号，目前全球只有不到10台。

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日本首台ASMLEUV光刻机年底到货：用于试产于Rapidus晶圆厂IT之家11月15日新闻，《日本经济新闻》当地时间今早报道称，日本先进半导体晶圆代工公司 Rapidus采购的首台ASMLEUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本首台EUV光刻设备。 根据Rapidus高管过去的说法，光刻机是早期的0.33NA型...

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光刻机概念（胶水）14日净流出38.23亿元，张江高科、晶方科技领涨。11月14日，光刻机概念（胶水）下跌4.49%，今日主要资金流出38.23亿元。 ，3只概念股上涨，80只下跌。 主力资金净流出居前的是张江高科（7.15亿元）、晶方科技（3.63亿元）、南大光电（2.29亿元）、雅科科技（1.67亿元）、杰杰微电子（1.49亿元）。 ）。