啥是气相沉积_啥是气管炎

合肥精河集成电路有限公司获得化学气相沉积设备相关专利，可...金融行业消息2024年11月11日，国家知识产权局信息显示，合肥精河集成电路有限公司已获得一项专利 该专利名称为"一种用于化学气相沉积设备的排气装置及化学气相沉积设备"，授权公告号为CN221971670U，申请日期为2024年1月。 专利摘要显示，该实用新型涉及半导体技术领域，特别是...

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连云港龙塔研磨材料有限公司获得化学气相沉积用于制备单晶碳化硅薄膜...金融界消息，据连云港龙塔国家知识产权局消息，2024年11月11日 塔尔磨料材料有限公司已获得一项名为"一种制备单晶碳化硅薄膜的化学气相沉积装置"专利，授权公告号CN221971736U，申请日期为2023年12月。 专利摘要显示，本实用新型公开了一种化学气相沉积...

用于制备单晶碳化硅薄膜。

粤芯半导体获得一种用于物理气相沉积设备的夹具专利，方便操作，避免...金融界消息2024年11月1日，国家知识产权局信息显示，粤芯半导体科技有限公司已获得专利。 专利名称为"物理气相沉积设备夹具"，授权公告号CN221895105U，申请日期为2023年9月。 专利摘要显示，本实用新型公开了一种物理气相沉积设备的夹具，包括非封闭式主体...

广智科技获得一项用于制备硫化锌的化学气相沉积系统的废气处理装置专利。据金融界消息，2024年11月1日，国家知识产权局信息显示，安徽广智科技股份有限公司已获得一项名为"化学气相沉积系统的废气处理装置"专利。 《一种制备硫化锌化学气相沉积系统的尾气处理装置》专利，授权公告号为CN118718711B，申请日期为2024年8月

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江西核工业兴中新材料有限公司获得化学气相沉积金属粉末制备装置...据财经新闻2024年10月28日，国家知识产权局信息显示，江西核工业兴中新材料有限公司已获得化学气相沉积金属粉末制备装置。 公司获得专利名称为"一种化学气相沉积法制备金属粉末的装置"，授权公告号CN221870273U，申请日为2024年3月。 专利摘要显示，一种化学气相沉积金属粉末制备装置，包括：异步电机、进给轴……

福建金石能源申请了一项气相沉积装置专利，有效避免了电镀现象，保证了电池质量。据财经界消息，2024年10月26日，国家知识产权局信息显示，福建金石能源股份有限公司申请了一项名为" 《气相沉积装置》专利，公开号CN118814142A，申请日期为2024年9月，专利摘要显示，本发明公开了一种气相沉积装置，涉及气相沉积技术领域。

京东方华灿光电（苏州）申请真空系统和化学气相沉积设备专利，可改善...财经新闻2024年10月26日，国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（苏州）有限公司 该公司申请了一项专利，名称为"真空系统及化学气相沉积设备"，公开号CN118814132A，申请日期为2024年6月。 专利摘要显示，本发明提供了一种真空系统和化学气相沉积设备，属于半导体制备设备领域。 该...

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中微半导体获得了一项蒸镀设备及其晶圆温度调节方法专利。据财经新闻2024年10月23日，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）有限公司已获得一项专利。 该专利名称为"蒸镀设备及其晶圆温度调节方法"，授权公告号为CN118480861B，申请日期为2024年7月。

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华为已申请了一种装置及其应用的专利，用于化学气相沉积或原子层沉积应用......专利号为CN118792631A，申请日期为2023年4月。 专利摘要显示，本文涉及半导体制造工艺技术领域，特别是器件及其应用。 本文描述的装置包括具有底部、侧壁、密封盖和设置在其中的托盘的容器。 本文描述的设备可以有利地用于化学气相沉积或原子层沉积申请过程。

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上海吉塔半导体申请了喷头等相关专利，以避免化学气相沉积中出现不良问题。据财经界消息，2024年10月21日，国家知识产权局信息显示，上海吉塔半导体有限公司申请了一项名为" 《喷头、化学气相沉积设备及工作方法》专利，公开号CN118756116A，申请日2024年7月。 专利摘要显示，本发明涉及喷头、化学气相沉积设备及其工作方法，包括：壳体、壳体...

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